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為客戶提供研磨拋光整體解決方案
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單晶金剛石微粉
單晶金剛石微粉,主要選用優(yōu)質(zhì)人造金剛石作為原料,根據(jù)不同行業(yè)及應(yīng)用領(lǐng)域的要求采用不同的生產(chǎn)工藝和產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)。
線鋸專用粉/ SiC晶體切割微粉
產(chǎn)品特征
采用高品級、高強度金剛石原料,繼承了原材料本身諸多優(yōu)點,顆粒內(nèi)部雜質(zhì)極低,低磁性、耐磨及耐沖擊性高,配合成熟的工藝和標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)塊狀鋒利的產(chǎn)品,使高效率和長壽命等指標(biāo)得到了完美的結(jié)合。嚴(yán)格控制的分級生產(chǎn)過程使產(chǎn)品粒度分布集中,更好地去除無效的細顆粒以及容易造成劃傷的粗顆粒,有效磨粒比例大幅度增加,提高工件加工效率,降低不良率。
應(yīng)用領(lǐng)域
適用于各種高精度電鍍金剛石線、電鍍金剛石砂輪、SiC晶體切割、刀具、超薄鋸片等。
復(fù)合片微粉
產(chǎn)品特征
采用高品級、高強度金剛石原料,繼承了原材料本身諸多優(yōu)點,顆粒內(nèi)部雜質(zhì)極低,低磁性、耐磨及耐沖擊性高,確保產(chǎn)品每個顆粒晶形規(guī)整,無條、片狀不規(guī)則形狀,更徹底地去除超尺寸顆粒,表面純度達到單元素<5ppm,分散性能良好。
應(yīng)用領(lǐng)域
適用于金剛石復(fù)合片、金剛石聚晶及金屬結(jié)合劑制品、陶瓷結(jié)合劑制品、電鍍金剛石制品等。
電鍍工具微粉
產(chǎn)品特征
采用高品級、高強度金剛石原料,針對硬脆材料的特點及加工要求,專門的整形工藝對顆粒進行圓角化、粗糙化處理,確保每個顆粒渾圓規(guī)整,沒有突出的棱角,顆粒粗糙的表面顯著增強與工件的把持力,渾圓的形狀可以有效的避免硬脆材料在加工中的崩邊和劃傷等不良。
應(yīng)用領(lǐng)域
適用于加工硬脆材料專用的的電鍍金剛石刀具、砂輪等。
更多
針對某些特定使用領(lǐng)域,在常規(guī)產(chǎn)品的基礎(chǔ)上進行深加工以更好地滿足這些特定行業(yè)的專門要求。
產(chǎn)品特征
專門針對高端拋光領(lǐng)域開發(fā)的細粒度產(chǎn)品。傳統(tǒng)的微粉整形和分級工藝對1微米以細的顆粒無法實現(xiàn)有效整形和分級,致使常規(guī)產(chǎn)品內(nèi)存在大量的不規(guī)則和超尺寸顆粒,這是直接導(dǎo)致超細金剛石微粉拋光效果不佳的核心因素。我公司突破了細粒度金剛石整形和分級的技術(shù)障礙,可以有效的對低至50納米的金剛石顆粒進行整形和分級處理,確保產(chǎn)品顆粒集中,完全去除不規(guī)則及超尺寸顆粒,確保了拋光過程中不會引起深度劃傷。
應(yīng)用領(lǐng)域
適用于高端精密寶石、鏡頭、金相耗材、液晶面板、液晶玻璃、藍寶石、石英片、LED藍寶石基板、液晶玻璃、陶瓷材料等精密研磨和拋光。
可供規(guī)格
規(guī)格 | D50 (μm) | 線鋸微粉 | SiC晶體切割微粉 | 復(fù)合片微粉 | 電鍍工具微粉 | 更多 |
0-0.05 | 0.05 | √ | ||||
0-0.08 | 0.08 | √ | ||||
0-0.1 | 0.1 | √ | ||||
0-0.25 | 0.2 | √ | ||||
0-0.5 | 0.3 | √ | ||||
0-1 | 0.5 | √ | ||||
0.5-1.5 | 0.8 | √ | ||||
0-2 | 1 | √ | ||||
1-2 | 1.4 | √ | ||||
1-3 | 1.8 | √ | √ | |||
2-4 | 2.5 | √ | √ | |||
3-6 | 3.5 | √ | √ | |||
4-8 | 5 | √ | √ | √ | √ | |
5-10 | 6.5 | √ | √ | √ | √ | |
6-12 | 8.5 | √ | √ | √ | √ | |
8-12 | 10 | √ | √ | √ | √ | √ |
8-16 | 12 | √ | √ | √ | √ | |
10-20 | 15 | √ | √ | √ | √ | |
15-25 | 18 | √ | √ | √ | √ | |
20-30 | 22 | √ | √ | √ | √ | |
20-40 | 26 | √ | √ | √ | √ | |
30-40 | 30 | √ | √ | √ | √ | |
40-60 | 40 | √ | √ | √ | √ | |
50-70 | 50 | √ | √ | √ | √ | |
60-80 | 60 | √ | √ | √ | √ |
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我們很高興與您分享我們的知識,并隨時歡迎您提出任何進一步的問題。
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